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                真空镀膜加工
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                直流电偏压和真空镀膜加工的比较

                2020-01-08 16:31:45

                直流电偏压和脉冲偏压的比较

                传统式的电孤等离子喷涂是在基片台子上释放直流电负偏压操纵离子轰击动能,这类沉积加工工艺存有下列缺陷:

                直流电偏压和真空镀膜加工的比较

                基体温高,不利PVD电镀厂在淬火温度低的基体上沉积硬质的膜。

                源能离子轰击导致比较严重的无心插柳,不可以简易根据提升离子轰击动能合出高反映阈能的硬质的塑料薄膜。

                直流电偏压电孤等离子喷涂加工工艺中,以便抑止因离子对基体表面持续负电子而造成的基体温度过高,关键采用降低沉积输出功率、减少沉积時间、选用间歇性沉积方法等对策来减少沉积温度,这种对策能够 PVD镀膜厂归纳地称之为动能控制法'这类方式 尽管能够 减少沉积温度,但也使塑料薄膜的一些特性降低,另外还减少了生产率和塑料薄膜品质的可靠性,因而,真空镀膜厂无法应用推广。

                脉冲偏压电孤等离子喷涂加工工艺中,因为电离要以非持续的脉冲方法负电子基体表面,因此根据调整脉冲偏压的占空比,可更改基体內部与表面中间的温度系数,从而更改基体內部与表面中间热的平衡赔偿实际效果,超过管控沉积温度的目地。那样就能够 把释放偏压的脉冲高宽比与钢件温度单独分离(互相危害或危害不大)调整,运用髙压脉冲来得到源能电离的负电子效用以改进塑料薄膜的机构和特性,根据减少占空比来减少离子轰击的总加温效用以减少沉积温度。


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